一、行（háng）業簡介
        半導（dǎo）體、集成電路芯（xīn）片及封裝（zhuāng）、液晶顯示、高精度線路板、光電器件（jiàn）、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模（mó）集成電（diàn）路需用大量的純水、高純水（shuǐ）、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集（jí）成度（dù）越高，線寬越窄，對水質的要（yào）求也越高。目前我國電子（zǐ）工業部（bù）把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質（zhì）。
二、應用範圍
1、電子、電力（lì）、電鍍、照明電（diàn）器、實驗室、食品、造紙、日化、建材（cái）、造漆、蓄電池、化驗、生物、製（zhì）藥、石（shí）油、化工（gōng）、鋼鐵、玻（bō）璃等領域。
2、化工工藝（yì）用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體（tǐ）芯片（piàn）、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路（lù）、液晶顯示器、導電玻璃、顯（xiǎn）像管（guǎn）、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各種元器件等生產（chǎn）工藝用純水。
三、工藝簡介
1、係統模塊化設計（jì），共分四部分：預處理係統、反滲（shèn）透係統、EDI係統（tǒng）、終端供水係統。
2、預（yù）處理係統主要用來去除原（yuán）水中的（de）懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保證產水符合反滲透係統的進水水質要求。
3、反滲透係統主要（yào）用來（lái）去除原水中（zhōng）溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保證產水符（fú）合EDI係（xì）統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類物（wù）質，產水達到電阻率達（dá）到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要（yào）是用來（lái）將（jiāng）合格水輸送至用水（shuǐ）點，輸（shū）送過程中對EDI產生進（jìn）行最後的離子交（jiāo）換脫鹽（yán），使得產水達到電（diàn）阻率達到18MΩ.cm以（yǐ）上。
6、整個係統進行集（jí）中（zhōng）控製。

四、技術特色
1、係（xì）統模塊化設計，占地麵積小，操作維護方便，安裝方（fāng）便快捷，整體美觀。
2、整套係統實現全（quán）自動化運行，並（bìng）且手動與自動自由切換。
3、設（shè）備產（chǎn）水水質穩定，運行連續穩定。
4、係（xì）統工藝（yì）先進，無需化學藥（yào）品（pǐn）再生，無危害性廢液（yè）排（pái）放（fàng）。
5、係統節水率高，係統回收率在（zài）75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表（biǎo）監測，適時數據（jù）上傳。
五、設備參數
1、係統回（huí）收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設（shè）備產水符（fú）合《電（diàn）子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半（bàn）導體工業（yè）純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。