一、行業簡介
        半導體、集成電路（lù）芯（xīn）片及封裝、液（yè）晶顯示、高精（jīng）度線路板、光電器件、各種電子器（qì）件、微電子工業（yè）、大規模、超大規模集成電路需用大量的（de）純水（shuǐ）、高純水、超純水清（qīng）洗半成品、成品。集成電路的集成度越高（gāo），線寬越（yuè）窄，對水質的要求也越（yuè）高。目前我（wǒ）國電子工（gōng）業部把電子級水質技術分為（wéi）五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電（diàn）鍍、照明（míng）電器、實驗室、食品、造（zào）紙（zhǐ）、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學（xué）藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導（dǎo）體晶片切割製造（zào）、半導體（tǐ）芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路（lù）、液晶顯示器（qì）、導電玻璃、顯像管（guǎn）、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各種元器件等生產工藝用純水。
三、工（gōng）藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用（yòng）來去除原水（shuǐ）中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保證產水符合反滲透係統的進水水質要（yào）求。
3、反滲透係統主要用來去除原水中溶解性鹽類物（wù）質、細菌、熱源等，保（bǎo）證產水符合（hé）EDI係統進水水質要（yào）求。
4、EDI係統主要用來對（duì）反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類物質，產水達到電阻（zǔ）率（lǜ）達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將合格水輸送至用水（shuǐ）點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水（shuǐ）達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技（jì）術特色
1、係統模塊化設計，占地麵（miàn）積小（xiǎo），操作維護（hù）方便（biàn），安裝方便（biàn）快捷，整體美觀。
2、整套係（xì）統（tǒng）實現全自動化運（yùn）行，並且（qiě）手動與自動自由（yóu）切換（huàn）。
3、設備產（chǎn）水水（shuǐ）質（zhì）穩定，運行連續穩定。
4、係（xì）統工藝先進，無需化學藥品（pǐn）再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水率高，係統回收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備（bèi）參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一（yī）級反滲透（tòu）≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備（bèi）產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。